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高纯四氟化锗 CAS#: 7783-58-6 半导体制程材料 电子特气
高纯四氟化锗 CAS#: 7783-58-6 半导体制程材料 电子特气


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       四氟化锗(GeF4)是一种锗的氟化物,分子量为148.63,在常温常压下为无色、辛辣大蒜气味气体,空气中遇水产生大量白烟。常温常压下四氟化锗性质稳定,在水中发生水解,生成GeO2和H2GeF6四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。


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半导体材料详情

产品指标 

项目Items

单位Units

指标Index

四氟化锗Germanium tetrafluorideGeF4)≥

Vol.%

99.99

四氟化碳Carbon tetrafluorideCF4)≤

Vol.ppm

10

氮气NitrogenN2)≤

Vol.ppm

10

+氩Oxygen+ ArgonO2+Ar))

Vol.ppm

20

一氧化碳Carbon monoxideCO

Vol.ppm

10

二氧化碳Carbon dioxideCO2)≤

Vol.ppm

5

二氧化硫Sulfur dioxideN2O

Vol.ppm

10

氟化氢Hydrogen fluorideHF)≤

Vol.ppm

35

ChromiumCr)≤

μg/L

0.05

IronFe)≤

μg/L

0.08

ManganeseMn)≤

μg/L

0.01

 

产品用途

   四氟化锗在半导体行业中用于掺杂和离子注入。四氟化锗结合乙硅烷气体,可以直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。四氟化锗在化学工业中还可用于合成试剂。

 

 包装、贮存

   四氟化锗充装在钢质无缝气瓶中,钢瓶容积分别为2 L、5 L8 L、10L等,钢瓶标准DOT-3AAGB 5099,钢瓶压力为1.3-1.5MPa。具体包装规格可根据用户需求定制更改。四氟化锗储存于阴凉、通风的库房,远离火种、热源。储区应备有泄漏应急处理设备。

 



 


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